Advanced etch technology for nanopatterning III : 24-25 February 2014 : San Jose, California, United States : conference advanced etch technology for nanopatterning 3 : SPIE advanced lithography symposium 2014 : Feb 2014, San Jose, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9780819499776 (paperback); 0819499773 (paperback)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Advanced etch technology for nanopatterning III : 24-25 February 2014 : San Jose, California, United States : conference advanced etch technology for nanopatterning 3 : SPIE advanced lithography symposium 2014 : Feb 2014, San Jose, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 9054
• 著者標目: Oehrlein, Gottlieb S.
• 出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
• 出版年月日等: [2014]
• 出版年（W3CDTF）: 2014
• 数量: 1 volume (various pagings)
• 形態の詳細: illustrations (black and white)
• 大きさ: 28 cm.
• 並列タイトル等: Advanced etch technology for nanopatterning 3 : 24-25 February 2014 : San Jose, California, United States; SPIE advanced lithography
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 表現種別: text
• 機器種別: unmediated
• キャリア種別: volume
• 件名標目: Plasma etching--Congresses.; Semiconductors--Etching--Congresses.; Nanoelectronics--Congresses.; Advanced etch technology; Etch technology; Nanopatterning
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Selected papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-14-2844
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 025507780; http://id.ndl.go.jp/bib/025507780
• OCLC番号: 887920095; https://www.worldcat.org/oclc/887920095
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215