Optical microlithography XXVII : 25-27 February 2014 : San Jose, California, United States.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9780819499752
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Optical microlithography XXVII : 25-27 February 2014 : San Jose, California, United States.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 9052
• 著者標目: Lai, Kafai.; Erdmann, Andreas.
• 出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
• 出版年月日等: [2014]
• 出版年（W3CDTF）: 2014
• 数量: 1 volume (various pagings)
• 形態の詳細: illustrations (black and white)
• 大きさ: 28 cm.
• 並列タイトル等: Optical microlithography 27 : 25-27 February 2014 : San Jose, California, United States; SPIE advanced lithography
• その他のタイトル: 27th optical microlithography conference : OM 27 : SPIE advanced lithography symposium 2014 : Feb 2014, San Jose, CA.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 表現種別: txt : text
• 機器種別: n : unmediated
• キャリア種別: nc : volume
• 件名標目: Integrated circuits--Masks--Congresses.; Microlithography--Congresses.; X-ray lithography--Congresses.; Manufacturing processes--Congresses.
• LCC: TK7835
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Selected papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-15-135
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 025577064; http://id.ndl.go.jp/bib/025577064
• LC control number: 2014412914; https://lccn.loc.gov/2014412914
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215