図書

最新シリコンデバイスと結晶技術 : 先端LSIが要求するウェーハ技術の現状

図書を表すアイコン

最新シリコンデバイスと結晶技術 : 先端LSIが要求するウェーハ技術の現状

国立国会図書館請求記号
ND371-L47
国立国会図書館書誌ID
025629726
資料種別
図書
著者
清水博文 編集委員長ほか
出版者
リアライズ理工センター
出版年
2005.12
資料形態
ページ数・大きさ等
330, 8p ; 30cm
NDC
549.8
すべて見る

書店で探す

目次

  • 最新 シリコンデバイスと結晶技術 -先端技術SLIが要求するウェーハ技術の現状- 目次

  • 第1章 はじめに/ 1

    【福田哲生】

  • 1. はじめに/ 3

  • 第2章 デバイスから見た結晶ニーズ/ 7

  • 1. デバイス動向と結晶ニーズ/ 9

    【松川和人】

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

その他

  • CiNii Research

    検索サービス
    連携先のサイトで、CiNii Researchが連携している機関・データベースの所蔵状況を確認できます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
図書
ISBN
4-89808-067-7
タイトルよみ
サイシン シリコン デバイス ト ケッショウ ギジュツ : センタン LSI ガ ヨウキュウスル ウェーハ ギジュツ ノ ゲンジョウ
著者・編者
清水博文 編集委員長
池田和子, 高田清司, 福田哲生 [編]
著者標目
清水, 博文, 1945- シミズ, ヒロフミ, 1945- ( 00911334 )典拠
池田, 和子, pub. 2005 イケダ, カズコ, pub. 2005 ( 001180662 )典拠
高田, 清司 タカダ, キヨシ ( 00830895 )典拠
福田, 哲生 フクダ, テツオ ( 01082972 )典拠
出版年月日等
2005.12
出版年(W3CDTF)
2005
数量
330, 8p