Plasma processing 19 : symposium "plasma processing 19" : PRiME 2012 joint international meeting of the Electrochemical Society and the Electrochemical Society of Japan : Oct 2012, Honolulu, HI.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 1623320828 (Softcover); 9781623320829 (Softcover); 1607684349 (PDF); 9781607684343 (PDF)
• ISSN（シリーズ）: 1938-5862
• タイトル: Plasma processing 19 : symposium "plasma processing 19" : PRiME 2012 joint international meeting of the Electrochemical Society and the Electrochemical Society of Japan : Oct 2012, Honolulu, HI.
• シリーズタイトル: ECS Transactions ; 50 (no. 46)
• タイトル標目: ECS transactions ; v. 50, no. 46.
• 著者標目: Symposium on Plasma Processing (19th : 2012 : Honolulu, Hawaii); Mathad, S.
• 出版事項: Pennington, NJ, USA : The Electrochemical Society (出版)
• 出版年月日等: [2013]
• 出版年（W3CDTF）: 2013
• 数量: vi, 93 pages
• 形態の詳細: illustrations
• 大きさ: 23 cm.
• 並列タイトル等: Dielectric and semiconductor materials, devices, and processing
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 表現種別: text
• 機器種別: unmediated
• キャリア種別: volume
• 件名標目: Plasma engineering--Congresses.; Plasma etching--Congresses.; Semiconductors--Congresses.
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-14-3090
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 025753860; http://id.ndl.go.jp/bib/025753860
• OCLC番号: 887868327; https://www.worldcat.org/oclc/887868327
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215