Photomask and next-generation lithography mask technology XXI : 15-17 April 2014 : Yokohama, Japan : Apr 2014, Yokohama, Japan. (SPIE Proceedings ; 9256)

Photomask and next-generation lithography mask technology XXI : 15-17 April 2014 : Yokohama, Japan : Apr 2014, Yokohama, Japan.

(SPIE Proceedings ; 9256)

国立国会図書館請求記号: M17-14-3242
国立国会図書館書誌ID: 025839035

資料種別: 図書

著者: Kato, Kokoro.

出版者: SPIE

出版年: [2014]

資料形態: 紙

ページ数・大きさ等: 1 volume (various pagings) ; 28 cm.

NDC: -

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一般注記：: Papers.

形態の詳細：: illustrations (black and white)

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書誌情報

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紙

資料種別: 図書
ISBN: 9781628413236 (paperback)
1628413239 (paperback)
ISSN（シリーズ）: 0277-786X
タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology XXI : 15-17 April 2014 : Yokohama, Japan : Apr 2014, Yokohama, Japan.
シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 9256
著者標目: Kato, Kokoro.
出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
出版年月日等: [2014]
出版年（W3CDTF）: 2014
数量: 1 volume (various pagings)
形態の詳細: illustrations (black and white)
大きさ: 28 cm.
並列タイトル等: Photomask and next-generation lithography mask technology 21 : 15-17 April 2014 : Yokohama, Japan
出版地（国名コード）: US
本文の言語コード: eng
表現種別: text
機器種別: unmediated
キャリア種別: volume
件名標目: Masks (Electronics)--Congresses.
Integrated circuits--Masks--Congresses.
X-ray lithography--Congresses.
Microlithography--Congresses.
Optoelectronic devices--Design and construction--Congresses.
Mask technology
Photomask
NDLC: M17
対象利用者: 一般
一般注記: Papers.
書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
所蔵機関: 国立国会図書館
請求記号: M17-14-3242
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書
https://ndlsearch.ndl.go.jp
書誌ID（NDLBibID）: 025839035
http://id.ndl.go.jp/bib/025839035
OCLC番号: 897436057
https://www.worldcat.org/oclc/897436057
目録規則: RDA
整理区分コード: 215