Photomask and next-generation lithography mask technology XXI : 15-17 April 2014 : Yokohama, Japan.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9781628413236 (paperback); 1628413239 (paperback)
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Photomask and next-generation lithography mask technology XXI : 15-17 April 2014 : Yokohama, Japan.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 9256
• 著者標目: Kato, Kokoro.
• 出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
• 出版年月日等: [2014]
• 出版年（W3CDTF）: 2014
• 数量: 1 volume (various pagings)
• 形態の詳細: illustrations (black and white)
• 大きさ: 28 cm.
• 並列タイトル等: Photomask and next-generation lithography mask technology 21 : 15-17 April 2014 : Yokohama, Japan
• その他のタイトル: Apr 2014, Yokohama, Japan.
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 表現種別: text
• 機器種別: unmediated
• キャリア種別: volume
• 件名標目: Masks (Electronics)--Congresses.; Integrated circuits--Masks--Congresses.; X-ray lithography--Congresses.; Microlithography--Congresses.; Optoelectronic devices--Design and construction--Congresses.; Mask technology; Photomask
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-14-3242
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 025839035; http://id.ndl.go.jp/bib/025839035
• OCLC番号: 897436057; https://www.worldcat.org/oclc/897436057
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215