博士論文

シリコンウェーハウェットエッチング技術の三次元積層半導体プロセスへの適用に関する研究

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シリコンウェーハウェットエッチング技術の三次元積層半導体プロセスへの適用に関する研究

国立国会図書館請求記号
UT51-2015-B586
国立国会図書館書誌ID
026814114
資料種別
博士論文
著者
吉川和博 [著]
出版者
[吉川和博]
出版年
[2014]
資料形態
ページ数・大きさ等
1冊
授与大学名・学位
東北大学,博士(工学)
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資料種別
博士論文
タイトルよみ
シリコン ウェーハ ウェット エッチング ギジュツ ノ サンジゲン セキソウ ハンドウタイ プロセス エ ノ テキヨウ ニ カンスル ケンキュウ
著者・編者
吉川和博 [著]
著者標目
吉川, 和博 ヨシカワ, カズヒロ
出版事項
出版年月日等
[2014]
出版年(W3CDTF)
2014
数量
1冊
並列タイトル等
A study on wet chemical silicon wafer etching technology for three-dimensional integrated circuit process