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図書

次世代リソグラフィワークショップ予稿集

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次世代リソグラフィワークショップ予稿集 = NGL Workshop 2014 proceedings

国立国会図書館請求記号
ND386-L100
国立国会図書館書誌ID
027422956
資料種別
図書
著者
応用物理学会
出版者
応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会
出版年
[2014]
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
83p ; 30cm
NDC
549.7
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資料に関する注記

一般注記：

会期・会場: 平成26年7月17日-18日 東京工業大学蔵前会館

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目次

  • Technical Program

  • Oral Presentations 1

    Thursday 17 July-Kuramae Hall

  • Plenary Presentations

    Session Chair:Sunao Ishihara(UTokyo)

  • 次世代リソグラフィ技術へのMEMS応用-超並列電子線描画とEUV用フィルタ-

    Application of MEMS technology to next generation lithography-Massive parallel electron beam lithography and filter for EUV-/ 1

    江刺正喜(東北大)||越田信義(東北大)||小島明(東北大)||池上尚克(東北大)||吉田孝(東北大)||室山真徳(東北大)||宮口裕(東北大)||西野仁(東北大)||鈴木裕輝夫(東北大)||Masayoshi Esashi(Tohoku Univ.)||Nobuyoshi Koshida(Tohoku Univ.)||Akira Kojima(Tohoku Univ.)||Naokatsu Ikegami(Tohoku Univ.)||Takashi Yoshida(Tohoku Univ.)||Masanori Muroyama(Tohoku Univ.)||Hiroshi Miyaguchi(Tohoku Univ.)||Hitoshi Nishino(Tohoku Univ.)||Yukio Suzuki(Tohoku Univ.)

  • ミニマルファブ構想とミニマルファブの開発

    Concept and development of minimal fab/ 3

    原史朗(産総研)||Shiro Hara(AIST)

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書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

紙

資料種別
図書
ISBN
978-4-86348-438-2
タイトル
次世代リソグラフィワークショップ予稿集
タイトルよみ
ジセダイ リソグラフィ ワークショップ ヨコウシュウ
著者標目
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
出版事項
[東京] : 応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会
出版年月日等
[2014]
出版年（W3CDTF）
2014
数量
83p
大きさ
30cm