次世代リソグラフィワークショップ予稿集 = NGL Workshop 2014 proceedings

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86348-438-2
• タイトル: 次世代リソグラフィワークショップ予稿集
• タイトルよみ: ジセダイ リソグラフィ ワークショップ ヨコウシュウ
• 著者標目: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
• 出版事項: [東京] : 応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会
• 出版年月日等: [2014]
• 出版年（W3CDTF）: 2014
• 数量: 83p
• 大きさ: 30cm
• 並列タイトル等: NGL Workshop 2014 proceedings NGL Workshop 2014 proceedings; NGL Workshop 2014 proceedings
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: リソグラフィー--会議録 リソグラフィー カイギロク ( 001239319 )典拠
• NDC9版: 549.7 : 電子工学
• NDLC: ND386
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 会期・会場: 平成26年7月17日-18日 東京工業大学蔵前会館
• 書誌注記: 文献あり
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND386-L100
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 027422956; http://id.ndl.go.jp/bib/027422956
• 全国書誌番号: 22764948
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

目次

Technical Program

Oral Presentations 1

Thursday 17 July-Kuramae Hall

Plenary Presentations

Session Chair:Sunao Ishihara(UTokyo)

次世代リソグラフィ技術へのMEMS応用-超並列電子線描画とEUV用フィルタ-

Application of MEMS technology to next generation lithography-Massive parallel electron beam lithography and filter for EUV-

ミニマルファブ構想とミニマルファブの開発

Concept and development of minimal fab