次世代リソグラフィワークショップ予稿集 = NGL Workshop 2014 proceedings

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-86348-438-2
• Title: 次世代リソグラフィワークショップ予稿集
• Title Transcription: ジセダイ リソグラフィ ワークショップ ヨコウシュウ
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 応用物理学会次世代リソグラフィ技術研究会
• Publication Date: [2014]
• Publication Date (W3CDTF): 2014
• Extent: 83p
• Size: 30cm
• Alternative Title: NGL Workshop 2014 proceedings NGL Workshop 2014 proceedings; NGL Workshop 2014 proceedings
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: リソグラフィー--会議録 リソグラフィー カイギロク ( 001239319 )Authorities
• NDC 9th ed.: 549.7 : Electronic engineering
• NDLC: ND386
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期・会場: 平成26年7月17日-18日 東京工業大学蔵前会館
• Note (Bibliography): 文献あり
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND386-L100
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 027422956; http://id.ndl.go.jp/bib/027422956
• National Bibliography No. (JPNO): 22764948
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

Technical Program

Oral Presentations 1

Thursday 17 July-Kuramae Hall

Plenary Presentations

Session Chair:Sunao Ishihara(UTokyo)

次世代リソグラフィ技術へのMEMS応用-超並列電子線描画とEUV用フィルタ-

Application of MEMS technology to next generation lithography-Massive parallel electron beam lithography and filter for EUV-

ミニマルファブ構想とミニマルファブの開発

Concept and development of minimal fab