Development of etching process simulator based on tight-binding quantum chemical molecular dynamics theory and its application to design of MEMS and semiconductor processes

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Development of etching process simulator based on tight-binding quantum chemical molecular dynamics theory and its application to design of MEMS and semiconductor processes
• 著者・編者: Hiroshi Ito [著]
• 著者標目: 伊藤, 寿 イトウ, ヒロシ
• 出版事項: [Hiroshi Ito]
• 出版年月日等: [2016]
• 出版年（W3CDTF）: 2016
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 強結合量子分子動力学法に基づくエッチングプロセスシミュレータの開発とMEMS・半導体プロセス設計への応用 キョウケツゴウ リョウシ ブンシ ドウリキガクホウ ニ モトズク エッチング プロセス シミュレータ ノ カイハツ ト MEMS ・ ハンドウタイ プロセス セッケイ エ ノ オウヨウ
• 授与機関名: 東北大学
• 授与年月日: 平成28年3月25日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2016
• 報告番号: 甲第17007号
• 学位: 博士(工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2016-B280
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 027817738; http://id.ndl.go.jp/bib/027817738
• 整理区分コード: 213