Development of etching process simulator based on tight-binding quantum chemical molecular dynamics theory and its application to design of MEMS and semiconductor processes

• Material Type: 博士論文
• Title: Development of etching process simulator based on tight-binding quantum chemical molecular dynamics theory and its application to design of MEMS and semiconductor processes
• Author/Editor: Hiroshi Ito [著]
• Author Heading: 伊藤, 寿 イトウ, ヒロシ
• Publication, Distribution, etc.: [Hiroshi Ito]
• Publication Date: [2016]
• Publication Date (W3CDTF): 2016
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 強結合量子分子動力学法に基づくエッチングプロセスシミュレータの開発とMEMS・半導体プロセス設計への応用 キョウケツゴウ リョウシ ブンシ ドウリキガクホウ ニ モトズク エッチング プロセス シミュレータ ノ カイハツ ト MEMS ・ ハンドウタイ プロセス セッケイ エ ノ オウヨウ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成28年3月25日
• Date Granted (W3CDTF): 2016
• Dissertation Number: 甲第17007号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2016-B280
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 027817738; http://id.ndl.go.jp/bib/027817738
• Bibliographic Record Category (NDL): 213