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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 (エレクトロニクスシリーズ)

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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術 = Advanced technologies for functional resist materials and process optimization

(エレクトロニクスシリーズ)

国立国会図書館請求記号
PA441-L152
国立国会図書館書誌ID
028685861
資料種別
図書
著者
河合晃 監修
出版者
シーエムシー出版
出版年
2017.9
資料形態
ページ数・大きさ等
320p ; 26cm
NDC
578.4
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目次

  • 目次

  • 【第I編 総論】

  • 第1章 リソグラフィープロセス概論

    河合晃

  • 1 はじめに/ 1

  • 2 リソグラフィープロセス/ 1

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
978-4-7813-1263-7
タイトルよみ
サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
著者・編者
河合晃 監修
シリーズタイトル
著者標目
河合, 晃 カワイ, アキラ ( 01226447 )典拠
出版年月日等
2017.9
出版年(W3CDTF)
2017