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電子デバイス界面テクノロジー研究会 : 材料・プロセス・デバイス特性の物理 : 第23回研究会 : 予稿集

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電子デバイス界面テクノロジー研究会 : 材料・プロセス・デバイス特性の物理 : 第23回研究会 : 予稿集

国立国会図書館請求記号
ND354-L56
国立国会図書館書誌ID
028787700
資料種別
図書
著者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 編
出版者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会
出版年
2018.1
資料形態
ページ数・大きさ等
264p ; 30cm
NDC
549
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資料に関する注記

一般注記:

会期・会場: 2018年1月19日-20日 東レ総合研修センター奥付のタイトル: 特別研究会研究報告共同刊行: 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会

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書誌情報

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資料種別
図書
ISBN
978-4-86348-655-3
タイトルよみ
デンシ デバイス カイメン テクノロジー ケンキュウカイ : ザイリョウ ・ プロセス ・ デバイス トクセイ ノ ブツリ : ダイ23カイ ケンキュウカイ : ヨコウシュウ
著者・編者
応用物理学会薄膜・表面物理分科会, 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会 編
著者標目
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
出版年月日等
2018.1
出版年(W3CDTF)
2018
数量
264p