International conference on extreme ultraviolet lithography 2017 : 11-14 September 2017 : Monterey, California, United States : Sep 2017, Monterey, CA.

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9781510613744 print
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: International conference on extreme ultraviolet lithography 2017 : 11-14 September 2017 : Monterey, California, United States : Sep 2017, Monterey, CA.
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 10450
• 著者標目: International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography (2017 : Monterey, Calif.); Gargini, Paolo A.; Naulleau, Patrick P.; Ronse, Kurt G.; Itani, Toshiro.
• 出版事項: Bellingham, Washington, USA : SPIE (出版)
• 出版年月日等: [2017]
• 出版年（W3CDTF）: 2017
• 数量: 1 volume (various pagings)
• 大きさ: 28 cm.
• 並列タイトル等: SPIE. photomask technology + EUV lithography
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 表現種別: text
• 機器種別: unmediated
• キャリア種別: volume
• 件名標目: Extreme ultraviolet lithography--Congresses.; Ultraviolet radiation--Industrial applications--Congresses.
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers.
• 書誌注記: Includes bibliographical references and author index.
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-19-886
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 028836881; http://id.ndl.go.jp/bib/028836881
• LC control number: 2018418509; https://lccn.loc.gov/2018418509
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215