超並列電子ビーム描画装置の開発 = Development of Massive parallel Electron Beam Write System : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86163-296-9
• タイトル: 超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
• タイトルよみ: チョウヘイレツ デンシ ビーム ビョウガ ソウチ ノ カイハツ
• 著者・編者: 江刺正喜, 宮口裕, 小島明, 池上尚克, 越田信義, 菅田正徳, 大井英之 著
• 著者標目: 江刺, 正喜, 1949- エサシ, マサヨシ, 1949- ( 00154561 )典拠; 宮口, 裕 ミヤグチ, ヒロシ ( 001296204 )典拠; 小島, 明, 工学 コジマ, アキラ, コウガク ( 001296197 )典拠
• 出版事項: 仙台 : 東北大学出版会
• 出版年月日等: 2018.6
• 出版年（W3CDTF）: 2018
• 数量: 228p
• 大きさ: 21cm
• 並列タイトル等: Development of Massive parallel Electron Beam Write System シュウセキ カイロ ノ ディジタル ファブリケーション オ メザシテ; Development of Massive parallel Electron Beam Write System
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 電子流 デンシリュウ ( 00561460 )典拠; 集積回路 シュウセキカイロ ( 00572448 )典拠
• NDC10版: 549.1 : 電子工学
• NDLC: ND351
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 索引あり
• 入手条件・定価: 3000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND351-L72
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029015802; http://id.ndl.go.jp/bib/029015802
• 全国書誌番号: 23075307
• トーハンMARC番号: 33777593
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: 並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））

目次

第1章　マスクレス露光と電子ビーム描画・転写

第2章　並列電子ビーム描画の課題

第3章　並列電子ビーム描画装置用電子源

第4章　超並列電子ビーム描画（MPEBW)

第5章　応用と今後の課題