超並列電子ビーム描画装置の開発 = Development of Massive parallel Electron Beam Write System : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-86163-296-9
• Title: 超並列電子ビーム描画装置の開発 : 集積回路のディジタルファブリケーションを目指して
• Title Transcription: チョウヘイレツ デンシ ビーム ビョウガ ソウチ ノ カイハツ
• Author/Editor: 江刺正喜, 宮口裕, 小島明, 池上尚克, 越田信義, 菅田正徳, 大井英之 著
• Author Heading: 江刺, 正喜, 1949- エサシ, マサヨシ, 1949- ( 00154561 )Authorities; 宮口, 裕 ミヤグチ, ヒロシ ( 001296204 )Authorities; 小島, 明, 工学 コジマ, アキラ, コウガク ( 001296197 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 仙台 : 東北大学出版会
• Publication Date: 2018.6
• Publication Date (W3CDTF): 2018
• Extent: 228p
• Size: 21cm
• Alternative Title: Development of Massive parallel Electron Beam Write System シュウセキ カイロ ノ ディジタル ファブリケーション オ メザシテ; Development of Massive parallel Electron Beam Write System
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: 電子流 デンシリュウ ( 00561460 )Authorities; 集積回路 シュウセキカイロ ( 00572448 )Authorities
• NDC 10th ed.: 549.1 : Electronic engineering
• NDLC: ND351
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 索引あり
• Price: 3000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND351-L72
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 029015802; http://id.ndl.go.jp/bib/029015802
• National Bibliography No. (JPNO): 23075307
• TOHAN MARC No.: 33777593
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: 並列電子ビームによる描画の実用化に向けて、アクティブマトリックス超並列電子ビームの実験・開発の成果をまとめる。(Provided by: 出版情報登録センター（JPRO）)

Table of Contents

第1章　マスクレス露光と電子ビーム描画・転写

第2章　並列電子ビーム描画の課題

第3章　並列電子ビーム描画装置用電子源

第4章　超並列電子ビーム描画（MPEBW)

第5章　応用と今後の課題