Control of electromigration in metallic thin films for suppressing interconnection failures and fabricating fine materials

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Control of electromigration in metallic thin films for suppressing interconnection failures and fabricating fine materials
• 著者・編者: Yasuhiro Kimura [著]
• 著者標目: 木村, 康裕 キムラ, ヤスヒロ
• 出版事項: [Yasuhiro Kimura]
• 出版年月日等: [2017]
• 出版年（W3CDTF）: 2017
• 数量: 1冊
• 並列タイトル等: 損傷抑制と微細材料創製のための金属薄膜配線におけるエレクトロマイグレーション制御に関する研究 ソンショウ ヨクセイ ト ビサイ ザイリョウ ソウセイ ノ タメ ノ キンゾク ハクマク ハイセン ニ オケル エレクトロマイグレーション セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• 授与機関名: 東北大学
• 授与年月日: 平成29年3月24日
• 授与年月日（W3CDTF）: 2017
• 報告番号: 甲第17539号
• 学位: 博士(工学)
• 学位論文注記: 博士論文
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: eng
• NDLC: UT51
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 博士論文
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: UT51-2018-A362
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029036711; http://id.ndl.go.jp/bib/029036711
• 整理区分コード: 213