Control of electromigration in metallic thin films for suppressing interconnection failures and fabricating fine materials

• Material Type: 博士論文
• Title: Control of electromigration in metallic thin films for suppressing interconnection failures and fabricating fine materials
• Author/Editor: Yasuhiro Kimura [著]
• Author Heading: 木村, 康裕 キムラ, ヤスヒロ
• Publication, Distribution, etc.: [Yasuhiro Kimura]
• Publication Date: [2017]
• Publication Date (W3CDTF): 2017
• Extent: 1冊
• Alternative Title: 損傷抑制と微細材料創製のための金属薄膜配線におけるエレクトロマイグレーション制御に関する研究 ソンショウ ヨクセイ ト ビサイ ザイリョウ ソウセイ ノ タメ ノ キンゾク ハクマク ハイセン ニ オケル エレクトロマイグレーション セイギョ ニ カンスル ケンキュウ
• Degree grantor/type: 東北大学
• Date Granted: 平成29年3月24日
• Date Granted (W3CDTF): 2017
• Dissertation Number: 甲第17539号
• Degree Type: 博士(工学)
• Note (Dissertation): 博士論文
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: eng
• NDLC: UT51
• Target Audience: 一般
• Note (General): 博士論文
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: UT51-2018-A362
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 029036711; http://id.ndl.go.jp/bib/029036711
• Bibliographic Record Category (NDL): 213