プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86428-170-6
• タイトル: プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例
• タイトルよみ: プラズマ CVD ニ オケル セイマク ジョウケン ノ サイテキカ ニ ムケタ ハンノウ キコウ ノ リカイ ト プロセス セイギョ ・ セイマク ジレイ
• 出版事項: 東京 : サイエンス&テクノロジー
• 出版年月日等: 2018.9
• 出版年（W3CDTF）: 2018
• 数量: 328p
• 大きさ: 26cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: 膜 (工学) マク (コウガク) ( 00567419 )典拠; プラズマ プラズマ ( 00569207 )典拠
• NDC10版: 571.4 : 化学工学．化学機器
• NDLC: PA151
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 50000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: PA151-L106
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 029299874; http://id.ndl.go.jp/bib/029299874
• 全国書誌番号: 23135203
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: プラズマCVDで「所望の薄膜」を形成するには……本書はそのプロセスへの近道を示す１冊でありたいという想いから、ご執筆様方の多大なるご理解ご協力のもとに発刊されました。 プラズマCVDでは反応系が複雑であるがために、時には場当たり的に成膜条件・レシピを確立させることがあるかと存じます。しかし、もし少し...

目次

―目次―

第1章 目的に応じた成膜方式の選定

1. なぜプラズマCVDを使うのか/ 3

2. ドライvs.ウェット/ 4

3. PVDとCVD/ 5