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プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

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プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた反応機構の理解とプロセス制御・成膜事例

Call No. (NDL)
PA151-L106
Bibliographic ID of National Diet Library
029299874
Material type
図書
Author
-
Publisher
サイエンス&テクノロジー
Publication date
2018.9
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
328p ; 26cm
NDC
571.4
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Summary, etc.:

プラズマCVDで「所望の薄膜」を形成するには……本書はそのプロセスへの近道を示す1冊でありたいという想いから、ご執筆様方の多大なるご理解ご協力のもとに発刊されました。 プラズマCVDでは反応系が複雑であるがために、時には場当たり的に成膜条件・レシピを確立させることがあるかと存じます。しかし、もし少し...

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Table of Contents

  • ―目次―

  • 第1章 目的に応じた成膜方式の選定

    白藤立||松田彰久

  • 1. なぜプラズマCVDを使うのか/ 3

  • 2. ドライvs.ウェット/ 4

  • 3. PVDとCVD/ 5

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Paper

Material Type
図書
ISBN
978-4-86428-170-6
Title Transcription
プラズマ CVD ニ オケル セイマク ジョウケン ノ サイテキカ ニ ムケタ ハンノウ キコウ ノ リカイ ト プロセス セイギョ ・ セイマク ジレイ
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
2018.9
Publication Date (W3CDTF)
2018
Extent
328p
Size
26cm
Place of Publication (Country Code)
JP