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プラズマプロセスの基礎と先端分野への応用 (プラズマエレクトロニクス講習会 ; 第30回)

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プラズマプロセスの基礎と先端分野への応用

(プラズマエレクトロニクス講習会 ; 第30回)

国立国会図書館請求記号
MC241-M2
国立国会図書館書誌ID
030076289
資料種別
図書
著者
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編
出版者
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
出版年
2019.11
資料形態
ページ数・大きさ等
67p ; 26cm
NDC
427.6
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資料に関する注記

一般注記:

会期・会場: 2019年11月12日 グランパークカンファレンス401ホール奥付のタイトル: 第30回プラズマエレクトロニクス講習会テキスト

資料詳細

内容細目:

反応性スパッタリングの基礎と応用展開 / 重里有三 著プラズマの基礎と計測技術 / 稲田優貴 著非平衡プラズマ生成制御とプロセス / 節原裕一 著...

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書誌情報

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資料種別
図書
ISSN(シリーズ)
2189-8596
タイトルよみ
プラズマ プロセス ノ キソ ト センタン ブンヤ エノ オウヨウ
著者・編者
応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編
著者標目
応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
出版年月日等
2019.11
出版年(W3CDTF)
2019