プラズマプロセスの基礎と先端分野への応用

• Material Type: 図書
• ISSN (series): 2189-8596
• Title: プラズマプロセスの基礎と先端分野への応用
• Title Transcription: プラズマ プロセス ノ キソ ト センタン ブンヤ エノ オウヨウ
• Author/Editor: 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編
• Series Title: プラズマエレクトロニクス講習会 ; 第30回
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• Publication Date: 2019.11
• Publication Date (W3CDTF): 2019
• Extent: 67p
• Size: 26cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: プラズマ プラズマ ( 00569207 )Authorities
• NDC 10th ed.: 427.6 : Electricity and magnetism
• NDLC: MC241
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期・会場: 2019年11月12日 グランパークカンファレンス401ホール; 奥付のタイトル: 第30回プラズマエレクトロニクス講習会テキスト
• Note (Bibliography): 文献あり
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: MC241-M2
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 030076289; http://id.ndl.go.jp/bib/030076289
• National Bibliography No. (JPNO): 23298998
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Contents: 反応性スパッタリングの基礎と応用展開 / 重里有三 著プラズマの基礎と計測技術 / 稲田優貴 著非平衡プラズマ生成制御とプロセス / 節原裕一 著...