プラズマプロセスの制御のための基礎と先端応用技術

• 資料種別: 図書
• ISSN（シリーズ）: 2189-8596
• タイトル: プラズマプロセスの制御のための基礎と先端応用技術
• タイトルよみ: プラズマ プロセス ノ セイギョ ノ タメ ノ キソ ト センタン オウヨウ ギジュツ
• 著者・編者: 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編
• シリーズタイトル: プラズマエレクトロニクス講習会 ; 第31回
• 著者標目: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
• 出版事項: [東京] : 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• 出版年月日等: 2020.11
• 出版年（W3CDTF）: 2020
• 数量: 98p
• 大きさ: 26cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 件名標目: プラズマ プラズマ ( 00569207 )典拠
• NDC10版: 427.6 : 電磁気学
• NDLC: MC241
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 会期・会場: 2020年11月20日 Webexによるネット開催; 奥付のタイトル: 第31回プラズマエレクトロニクス講習会テキスト
• 書誌注記: 文献あり
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: MC241-M6
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 030742035; http://id.ndl.go.jp/bib/030742035
• 全国書誌番号: 23451854
• 目録規則: 日本目録規則1987年版改訂版
• 整理区分コード: 111

• 内容細目: プラズマ生成・制御技術の基礎と応用 / 八木澤卓 著プラズマ診断技術の基礎と最新動向 / 小川大輔, 中村圭二 著プラズマCVD技術の基礎と最新動向 / 布村正太 著...