プラズマプロセスの制御のための基礎と先端応用技術

• Material Type: 図書
• ISSN (series): 2189-8596
• Title: プラズマプロセスの制御のための基礎と先端応用技術
• Title Transcription: プラズマ プロセス ノ セイギョ ノ タメ ノ キソ ト センタン オウヨウ ギジュツ
• Author/Editor: 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編
• Series Title: プラズマエレクトロニクス講習会 ; 第31回
• Author Heading: 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会
• Publication Date: 2020.11
• Publication Date (W3CDTF): 2020
• Extent: 98p
• Size: 26cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Subject Heading: プラズマ プラズマ ( 00569207 )Authorities
• NDC 10th ed.: 427.6 : Electricity and magnetism
• NDLC: MC241
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期・会場: 2020年11月20日 Webexによるネット開催; 奥付のタイトル: 第31回プラズマエレクトロニクス講習会テキスト
• Note (Bibliography): 文献あり
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: MC241-M6
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 030742035; http://id.ndl.go.jp/bib/030742035
• National Bibliography No. (JPNO): 23451854
• Cataloging Rule: Nippon Cataloguing Rules 1987 Revised Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Contents: プラズマ生成・制御技術の基礎と応用 / 八木澤卓 著プラズマ診断技術の基礎と最新動向 / 小川大輔, 中村圭二 著プラズマCVD技術の基礎と最新動向 / 布村正太 著...