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EUVリソグラフィ技術 : レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状

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EUVリソグラフィ技術 = Extreme ultraviolet lithography : レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状

国立国会図書館請求記号
ND386-M92
国立国会図書館書誌ID
033077183
資料種別
図書
著者
渡邊健夫 監修
出版者
AndTech
出版年
2023.5
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
193 p ; 26 cm
NDC
549.7
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目次

提供元：国立国会図書館

  • 目次

  • 第1章 EUVリソグラフィの概要

    ～EUVリソグラフィ用材料・技術の進化と半導体業界の変遷～/ 001

    兵庫県立大学 渡邊 健夫

  • はじめに/ 002

  • 1. 露光光学系と露光装置/ 003

  • 2. EUVマスク/ 009

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紙

資料種別
図書
ISBN
978-4-909118-56-1
タイトル
EUVリソグラフィ技術 : レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状
タイトルよみ
EUV リソグラフィ ギジュツ : レジスト ザイリョウ ・ コウゲン ・ ロコウ ソウチ ギジュツ ・ カクシュ コウセイ ノ ヘンセン ト ゲンジョウ
著者・編者
渡邊健夫 監修
著者標目
監修者 ： 渡邊, 健夫 ワタナベ, タケオ ( 033104301 )典拠
出版事項
川崎 : AndTech (出版)
出版年月日等
2023.5
出版年（W3CDTF）
2023
数量
193 p