EUVリソグラフィ技術 = Extreme ultraviolet lithography : レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-909118-56-1
• Title: EUVリソグラフィ技術 : レジスト材料・光源・露光装置技術・各種構成の変遷と現状
• Title Transcription: EUV リソグラフィ ギジュツ : レジスト ザイリョウ ・ コウゲン ・ ロコウ ソウチ ギジュツ ・ カクシュ コウセイ ノ ヘンセン ト ゲンジョウ
• Author/Editor: 渡邊健夫 監修
• Author Heading: 監修者 ： 渡邊, 健夫 ワタナベ, タケオ ( 033104301 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 川崎 : AndTech (出版)
• Publication Date: 2023.5
• Publication Date (W3CDTF): 2023
• Extent: 193 p
• Size: 26 cm
• Alternative Title: Extreme ultraviolet lithography Extreme ultraviolet lithography; Extreme ultraviolet lithography
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Subject Heading: リソグラフィー リソグラフィー ( 00576369 )Authorities
• NDC 10th ed.: 549.7 : Electronic engineering
• NDLC: ND386
• NDC (Introduction of Reference Books): 549.7
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 40000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND386-M92
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 033077183; http://id.ndl.go.jp/bib/033077183
• National Bibliography No. (JPNO): 23903703
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

Table of Contents

目次

第1章 EUVリソグラフィの概要

～EUVリソグラフィ用材料・技術の進化と半導体業界の変遷～/ 001

はじめに/ 002

1. 露光光学系と露光装置/ 003

2. EUVマスク/ 009