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レジスト材料の基礎とプロセス最適化

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レジスト材料の基礎とプロセス最適化 = Fundamentals of resist materials and process optimization

国立国会図書館請求記号
YU7-R25
国立国会図書館書誌ID
033324386
資料種別
図書
著者
河合晃 著
出版者
シーエムシー・リサーチ
出版年
2021.11
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
193 p ; 30 cm
NDC
578.4
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資料に関する注記

付属資料：

CD-ROM 1枚 (12 cm)

資料詳細

要約等：

★半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に関する基盤技術やノウハウを集約した書籍です。（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））

著者紹介：

河合　晃 三菱電機（株） ULSI研究所での勤務を経て、大学教員として、電子デバイス、電子材料、リソグラフィ、コーティング、表面界面、プロセス技術の研究開発を行う。 　各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。現在、名誉教授、ならびにアドヒージョン（株） 代表取締...

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目次

提供元：出版情報登録センター（JPRO）

  • 第1章　レジスト材料

  • 1　高分子集合体

  • 1.1　はじめに

  • 1.2　表面エネルギーとサイズ効果

  • 1.3　レジスト膜表面ミクロ構造

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紙

資料種別
図書
ISBN
978-4-910581-10-1
タイトル
レジスト材料の基礎とプロセス最適化
タイトルよみ
レジスト ザイリョウ ノ キソ ト プロセス サイテキカ
著者・編者
河合晃 著
著者標目
著者 ： 河合, 晃 カワイ, アキラ ( 01226447 )典拠
出版事項
東京 : シーエムシー・リサーチ (出版)
出版年月日等
2021.11
出版年（W3CDTF）
2021
数量
193 p