ヘルプ
ヘルプ
図書

レジスト材料の基礎とプロセス最適化

図書を表すアイコン

レジスト材料の基礎とプロセス最適化 = Fundamentals of resist materials and process optimization

国立国会図書館請求記号
YU7-R25
国立国会図書館書誌ID
033324386
資料種別
図書
著者
河合晃 著
出版者
シーエムシー・リサーチ
出版年
2021.11
資料形態
紙
ページ数・大きさ等
193 p ; 30 cm
NDC
578.4
すべて見る

資料に関する注記

付属資料：

CD-ROM 1枚 (12 cm)

書店で探す

書店で探す

書店で探す

書誌情報

この資料の詳細や典拠（同じ主題の資料を指すキーワード、著者名）等を確認できます。

紙

資料種別
図書
ISBN
978-4-910581-10-1
タイトル
レジスト材料の基礎とプロセス最適化
タイトルよみ
レジスト ザイリョウ ノ キソ ト プロセス サイテキカ
著者・編者
河合晃 著
著者標目
著者 ： 河合, 晃 カワイ, アキラ ( 01226447 )典拠
出版事項
東京 : シーエムシー・リサーチ (出版)
出版年月日等
2021.11
出版年（W3CDTF）
2021
数量
193 p