レジスト材料の基礎とプロセス最適化 = Fundamentals of resist materials and process optimization

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-910581-10-1
• Title: レジスト材料の基礎とプロセス最適化
• Title Transcription: レジスト ザイリョウ ノ キソ ト プロセス サイテキカ
• Author/Editor: 河合晃 著
• Author Heading: 著者 ： 河合, 晃 カワイ, アキラ ( 01226447 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : シーエムシー・リサーチ (出版)
• Publication Date: 2021.11
• Publication Date (W3CDTF): 2021
• Extent: 193 p
• Size: 30 cm
• Accompanying material: CD-ROM 1枚 (12 cm)
• Alternative Title: Fundamentals of resist materials and process optimization Fundamentals of resist materials and process optimization; Fundamentals of resist materials and process optimization
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト; 不明
• Media Type: 機器不用; コンピュータ
• Carrier Type: 冊子; コンピュータ・ディスク
• Subject Heading: 感光性樹脂 カンコウセイジュシ ( 00576718 )Authorities; リソグラフィー リソグラフィー ( 00576369 )Authorities
• NDC 10th ed.: 578.4 : Polymers. Plastics. Cellulose
• NDLC: YU7; PA441
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 99000円 (税込)
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: YU7-R25
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 033324386; http://id.ndl.go.jp/bib/033324386
• National Bibliography No. (JPNO): 23952147
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: ★半導体、ディスプレイ、プリント基板等で欠かせないフォトレジスト材料に関する基盤技術やノウハウを集約した書籍です。(Provided by: 出版情報登録センター（JPRO）)
• Author introduction: 河合 晃 三菱電機（株） ULSI研究所での勤務を経て、大学教員として、電子デバイス、電子材料、リソグラフィ、コーティング、表面界面、プロセス技術の研究開発を行う。 各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。現在、名誉教授、ならびにアドヒージョン（株） 代表取締...

Table of Contents

第1章　レジスト材料

1　高分子集合体

1.1　はじめに

1.2　表面エネルギーとサイズ効果

1.3　レジスト膜表面ミクロ構造