Photomask Japan 2023: XXIX symposium on photomask and next-generation lithography mask technology : 25-27 April 2023 : online only, Japan

• 資料種別: 図書
• ISBN: 9781510670907
• ISSN（シリーズ）: 0277-786X
• タイトル: Photomask Japan 2023: XXIX symposium on photomask and next-generation lithography mask technology : 25-27 April 2023 : online only, Japan
• シリーズタイトル: SPIE Proceedings ; 12915
• 著者標目: Photomask Japan (Conference) (2023 : Online); Kojima, Yosuke; Photomask Japan; SPIE (Society)
• 出版事項: Bellingham, Washington : SPIE (出版)
• 出版年月日等: [2023]; 著作権日付 : ©2023
• 出版年（W3CDTF）: 2023
• 数量: 1 volume (various pagings)
• 大きさ: 28 cm
• 並列タイトル等: Photomask Japan 2023: 29 symposium on photomask and next-generation lithography mask technology : 25-27 April 2023 : online only, Japan
• その他のタイトル: Apr 2023
• 出版地（国名コード）: US
• 本文の言語コード: eng
• 表現種別: text
• 機器種別: unmediated
• キャリア種別: volume
• LCC: TK7872.M3
• NDLC: M17
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: Papers; Held online
• 書誌注記: Includes bibliographical references
• 一次資料へのリンクURL: SPIE Digital Library; https://proceedings.spiedigitallibrary.org/volume.aspx?volume=12915
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: M17-25-63
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033684339; http://id.ndl.go.jp/bib/033684339
• 目録規則: RDA
• 整理区分コード: 215