半導体製造における洗浄技術 = Semiconductor cleaning technology

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-7813-1856-1
• タイトル: 半導体製造における洗浄技術
• タイトルよみ: ハンドウタイ セイゾウ ニ オケル センジョウ ギジュツ
• 著者・編者: 羽深等 監修
• シリーズタイトル: エレクトロニクスシリーズ
• 著者標目: 監修者 ： 羽深, 等 ハブカ, ヒトシ ( 031730042 )典拠
• 出版事項: 東京 : シーエムシー出版 (出版)
• 出版年月日等: 2024.12
• 出版年（W3CDTF）: 2024
• 数量: 232 p
• 大きさ: 26 cm
• 並列タイトル等: Semiconductor cleaning technology Semiconductor cleaning technology; Semiconductor cleaning technology
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 表現種別: テキスト
• 機器種別: 機器不用
• キャリア種別: 冊子
• 件名標目: 半導体 ハンドウタイ ( 00562913 )典拠; 洗浄 センジョウ ( 01196145 )典拠
• NDC10版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• NDC（参考図書紹介）: 549.8
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 65000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-R25
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 033816794; http://id.ndl.go.jp/bib/033816794
• 全国書誌番号: 24073825
• 目録規則: 日本目録規則2018年版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: 細かな電子回路を作り込むのに必須である半導体表面の清浄化技術。洗浄液、洗浄・クリーン化・乾燥技術、洗浄装置、評価・観察・解析などの章構成で半導体洗浄技術の最新動向に迫る一冊。（提供元: 出版情報登録センター（JPRO））

目次

第1章　半導体製造プロセスを支える洗浄技術

1　大口径化と微細化

2　洗う理由

3　前工程と洗浄

4　装置,薬液と乾燥