半導体製造における洗浄技術 = Semiconductor cleaning technology

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-7813-1856-1
• Title: 半導体製造における洗浄技術
• Title Transcription: ハンドウタイ セイゾウ ニ オケル センジョウ ギジュツ
• Author/Editor: 羽深等 監修
• Series Title: エレクトロニクスシリーズ
• Author Heading: 監修者 ： 羽深, 等
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : シーエムシー出版 (出版)
• Publication Date: 2024.12
• Publication Date (W3CDTF): 2024
• Extent: 232 p
• Size: 26 cm
• Alternative Title: Semiconductor cleaning technology Semiconductor cleaning technology; Semiconductor cleaning technology
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 65000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 033816794; http://id.ndl.go.jp/bib/033816794
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: 細かな電子回路を作り込むのに必須である半導体表面の清浄化技術。洗浄液、洗浄・クリーン化・乾燥技術、洗浄装置、評価・観察・解析などの章構成で半導体洗浄技術の最新動向に迫る一冊。(Provided by: 出版情報登録センター（JPRO）)

Table of Contents

第1章　半導体製造プロセスを支える洗浄技術

1　大口径化と微細化

2　洗う理由

3　前工程と洗浄

4　装置,薬液と乾燥