本文へ移動
図書

ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み

図書を表すアイコン

ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み

国立国会図書館請求記号
ND371-R44
国立国会図書館書誌ID
034153694
資料種別
図書
著者
平井義彦 監修
出版者
AndTech
出版年
2025.3
資料形態
ページ数・大きさ等
135 p ; 26 cm
NDC
549.8
すべて見る

資料詳細

要約等:

★ナノインプリント・リソグラフィのメカニズム、半導体微細加工の応用に向けた各種取り組み、装置の開発と実用化、デバイス適用への見通しについて紹介!★ナノインプリント・リソグラフィにおける離型性課題の評価と対策を紹介!★ナノインプリント・リソグラフィの国内外の動向と今後の展望とは!?(提供元: 出版情報...

書店で探す

目次

提供元:出版情報登録センター(JPRO)ヘルプページへのリンク
  • 第1章 ナノインプリント・リソグラフィの概要・半導体への応用

  • 第1節 ナノインプリント・リソグラフィのメカニズムと半導体応用に向けて

  • 大阪公立大学 平井 義彦

  • はじめに

  • 1. ナノインプリントの解像性

全国の図書館の所蔵

国立国会図書館以外の全国の図書館の所蔵状況を表示します。

所蔵のある図書館から取寄せることが可能かなど、資料の利用方法は、ご自身が利用されるお近くの図書館へご相談ください

関東

書店で探す

出版書誌データベース Books から購入できる書店を探す

『Books』は各出版社から提供された情報による出版業界のデータベースです。 現在入手可能な紙の本と電子書籍を検索することができます。

書誌情報

この資料の詳細や典拠(同じ主題の資料を指すキーワード、著者名)等を確認できます。

資料種別
図書
ISBN
978-4-909118-79-0
タイトルよみ
ナノインプリント ・ リソグラフィ ノ シャカイ ジッソウ ト ショウライ テンボウ : EUVL ニ タイコウスル チュウモク ノ ジセダイ ハンドウタイ ビサイ カコウ ギジュツ オヨビ リケイセイ カダイ コクフク ニ ムケタ トリクミ
著者・編者
平井義彦 監修
著者標目
監修者 : 平井, 義彦 ヒライ, ヨシヒコ ( 01053992 )典拠
出版年月日等
2025.3
出版年(W3CDTF)
2025
数量
135 p