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ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み

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ナノインプリント・リソグラフィの社会実装と将来展望 : EUVLに対抗する注目の次世代半導体微細加工技術および離型性課題克服に向けた取り組み

Call No. (NDL)
ND371-R44
Bibliographic ID of National Diet Library
034153694
Material type
図書
Author
平井義彦 監修
Publisher
AndTech
Publication date
2025.3
Material Format
Paper
Capacity, size, etc.
135 p ; 26 cm
NDC
549.8
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Detailed bibliographic record

Summary, etc.:

★ナノインプリント・リソグラフィのメカニズム、半導体微細加工の応用に向けた各種取り組み、装置の開発と実用化、デバイス適用への見通しについて紹介!★ナノインプリント・リソグラフィにおける離型性課題の評価と対策を紹介!★ナノインプリント・リソグラフィの国内外の動向と今後の展望とは!?(Provided ...

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Table of Contents

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  • 第1章 ナノインプリント・リソグラフィの概要・半導体への応用

  • 第1節 ナノインプリント・リソグラフィのメカニズムと半導体応用に向けて

  • 大阪公立大学 平井 義彦

  • はじめに

  • 1. ナノインプリントの解像性

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Paper

Material Type
図書
ISBN
978-4-909118-79-0
Title Transcription
ナノインプリント ・ リソグラフィ ノ シャカイ ジッソウ ト ショウライ テンボウ : EUVL ニ タイコウスル チュウモク ノ ジセダイ ハンドウタイ ビサイ カコウ ギジュツ オヨビ リケイセイ カダイ コクフク ニ ムケタ トリクミ
Author/Editor
平井義彦 監修
Author Heading
監修者 : 平井, 義彦 ヒライ, ヨシヒコ ( 01053992 )Authorities
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
2025.3
Publication Date (W3CDTF)
2025
Extent
135 p