ナノインプリント技術の基礎と応用最前線

• 資料種別: 図書
• ISBN: 978-4-86428-333-5
• タイトル: ナノインプリント技術の基礎と応用最前線
• タイトルよみ: ナノインプリント ギジュツ ノ キソ ト オウヨウ サイゼンセン
• 著者・編者: 平井義彦 監修
• 著者標目: 監修者 ： 平井, 義彦 ヒライ, ヨシヒコ ( 01053992 )典拠
• 出版事項: 東京 : サイエンス&テクノロジー (出版)
• 出版年月日等: 2025.9
• 出版年（W3CDTF）: 2025
• 数量: 402 p, 図版 (ページ付なし)
• 大きさ: 26 cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 表現種別: テキスト
• 機器種別: 機器不用
• キャリア種別: 冊子
• 件名標目: ナノインプリント ナノインプリント ( 01086440 )典拠
• NDC10版: 549.8 : 電子工学
• NDLC: ND371
• NDC（参考図書紹介）: 549.8
• 対象利用者: 一般
• 書誌注記: 文献あり
• 入手条件・定価: 65000円
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: ND371-R40
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 034347829; http://id.ndl.go.jp/bib/034347829
• 全国書誌番号: 24176981
• 目録規則: 日本目録規則2018年版
• 整理区分コード: 111

• 要約等: ～理論・シミュレーション・プロセス最適化と材料・装置・応用開発の進展～ナノインプリント技術は、1995年にStephen Y. Chou教授が従来のリソグラフィーを超える革新的な機械的パターニングとして開発され、当時10nmの超高解像度を達成しました。2025年に30周年を迎えるこの技術は、0.3n...

目次

はじめに

Preface

半導体産業におけるナノインプリントへの期待

1.　AI/ 知能化社会をリードする半導体

1.1　超高速処理AI デバイスにより知能化