ナノインプリント技術の基礎と応用最前線

• Material Type: 図書
• ISBN: 978-4-86428-333-5
• Title: ナノインプリント技術の基礎と応用最前線
• Title Transcription: ナノインプリント ギジュツ ノ キソ ト オウヨウ サイゼンセン
• Author/Editor: 平井義彦 監修
• Author Heading: 監修者 ： 平井, 義彦 ヒライ, ヨシヒコ ( 01053992 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: 東京 : サイエンス&テクノロジー (出版)
• Publication Date: 2025.9
• Publication Date (W3CDTF): 2025
• Extent: 402 p, 図版 (ページ付なし)
• Size: 26 cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Subject Heading: ナノインプリント ナノインプリント ( 01086440 )Authorities
• NDC 10th ed.: 549.8 : Electronic engineering
• NDLC: ND371
• NDC (Introduction of Reference Books): 549.8
• Target Audience: 一般
• Note (Bibliography): 文献あり
• Price: 65000円
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: ND371-R40
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 034347829; http://id.ndl.go.jp/bib/034347829
• National Bibliography No. (JPNO): 24176981
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Summary, etc.: ～理論・シミュレーション・プロセス最適化と材料・装置・応用開発の進展～ナノインプリント技術は、1995年にStephen Y. Chou教授が従来のリソグラフィーを超える革新的な機械的パターニングとして開発され、当時10nmの超高解像度を達成しました。2025年に30周年を迎えるこの技術は、0.3n...

Table of Contents

はじめに

Preface

半導体産業におけるナノインプリントへの期待

1.　AI/ 知能化社会をリードする半導体

1.1　超高速処理AI デバイスにより知能化