プラズマプロセスの基礎と先端応用技術

• 資料種別: 図書
• ISSN（シリーズ）: 2189-8596
• タイトル: プラズマプロセスの基礎と先端応用技術
• タイトルよみ: プラズマ プロセス ノ キソ ト センタン オウヨウ ギジュツ
• シリーズタイトル: プラズマエレクトロニクス講習会テキスト ; 第36回
• シリーズ著者・編者: 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編集
• 著者標目: 編集責任者 ： 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )典拠
• 出版事項: [東京] : 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 (出版)
• 出版年月日等: 2025.11
• 出版年（W3CDTF）: 2025
• 数量: 86 p
• 大きさ: 26 cm
• 出版地（国名コード）: JP
• 本文の言語コード: jpn
• 表現種別: テキスト
• 機器種別: 機器不用
• キャリア種別: 冊子
• 件名標目: プラズマ プラズマ ( 00569207 )典拠
• NDC10版: 427.6 : 電磁気学
• NDLC: MC241
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 会期・会場: 2025年11月7日 名城大学天白キャンパスN304講義室
• 書誌注記: 文献あり
• 所蔵機関: 国立国会図書館
• 請求記号: MC241-R3
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• 書誌ID（NDLBibID）: 034409211; http://id.ndl.go.jp/bib/034409211
• 全国書誌番号: 24193665
• 目録規則: 日本目録規則2018年版
• 整理区分コード: 111

• 内容細目: プラズマの基礎 / 川口悟プラズマ診断技術の基礎と最新動向 / 小川大輔絶縁膜エッチング (高アスペクト比ホールエッチング) の基礎と最前線 / 大村光広...