プラズマプロセスの基礎と先端応用技術

• Material Type: 図書
• ISSN (series): 2189-8596
• Title: プラズマプロセスの基礎と先端応用技術
• Title Transcription: プラズマ プロセス ノ キソ ト センタン オウヨウ ギジュツ
• Series Title: プラズマエレクトロニクス講習会テキスト ; 第36回
• Author/Editor (Series Title): 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 編集
• Author Heading: 編集責任者 ： 応用物理学会 オウヨウ ブツリ ガッカイ ( 00281497 )Authorities
• Publication, Distribution, etc.: [東京] : 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会 (出版)
• Publication Date: 2025.11
• Publication Date (W3CDTF): 2025
• Extent: 86 p
• Size: 26 cm
• Place of Publication (Country Code): JP
• Text Language Code: jpn
• Content Type: テキスト
• Media Type: 機器不用
• Carrier Type: 冊子
• Subject Heading: プラズマ プラズマ ( 00569207 )Authorities
• NDC 10th ed.: 427.6 : Electricity and magnetism
• NDLC: MC241
• Target Audience: 一般
• Note (General): 会期・会場: 2025年11月7日 名城大学天白キャンパスN304講義室
• Note (Bibliography): 文献あり
• Holding library: 国立国会図書館
• Call No.: MC241-R3
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館蔵書; https://ndlsearch.ndl.go.jp
• Bibliographic ID (NDL): 034409211; http://id.ndl.go.jp/bib/034409211
• National Bibliography No. (JPNO): 24193665
• Cataloging Rule: Nippon Cataloging Rules 2018 Edition
• Bibliographic Record Category (NDL): 111

• Contents: プラズマの基礎 / 川口悟プラズマ診断技術の基礎と最新動向 / 小川大輔絶縁膜エッチング (高アスペクト比ホールエッチング) の基礎と最前線 / 大村光広...