半導体デバイスの進化を支えるドライエッチング装置

• 資料種別: 記事
• タイトル: 半導体デバイスの進化を支えるドライエッチング装置
• 著者・編者: 榎並弘充; 小川芳文; 伊澤勝
• 出版事項: 日本 : 日立評論社
• 出版年月日等: 2011-02-01
• 出版年（W3CDTF）: 2011-02-01
• 並列タイトル等: Plasma etching system supporting evolution of semiconductor devices
• タイトル（掲載誌）: 日立評論
• 巻号年月日等（掲載誌）: 93(2)
• 掲載巻: 93(2)
• 本文の言語コード: jpn
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10227115; https://dl.ndl.go.jp/pid/10227115
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
• 収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• 受理日（W3CDTF）: 2016-12-15T23:12:21+09:00
• 保存日（W3CDTF）: 2011-05-29
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/1715810/www.hitachihyoron.com/2011/02/index.html
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10227110; https://dl.ndl.go.jp/pid/10227110
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp