半導体デバイスの進化を支えるドライエッチング装置

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10227115

Material type: 記事

Author: 榎並弘充ほか

Publisher: 日立評論社

Publication date: 2011-02-01

Material Format: Digital

Journal name: 日立評論 93(2)

Publication Page: -

View All

Bibliographic Record

You can check the details of this material, its authority (keywords that refer to materials on the same subject, author's name, etc.), etc.

Digital

Material Type: 記事
Title: 半導体デバイスの進化を支えるドライエッチング装置
Author/Editor: 榎並弘充
小川芳文
伊澤勝
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 日立評論社
Publication Date: 2011-02-01
Publication Date (W3CDTF): 2011-02-01
Alternative Title: Plasma etching system supporting evolution of semiconductor devices
Periodical title: 日立評論
No. or year of volume/issue: 93(2)
Volume: 93(2)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10227115
https://dl.ndl.go.jp/pid/10227115
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > その他
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00035
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2016-12-15T23:12:21+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2011-05-29
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/1715810/www.hitachihyoron.com/2011/02/index.html
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10227110
https://dl.ndl.go.jp/pid/10227110
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp