26aB03 表面波励起H_2/SiH_4プラズマによる高速・大面積シリコン薄膜形成(プラズマ基礎・応用I)

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10461050

資料種別: 記事

著者: 宗宮,暁ほか

出版者: プラズマ・核融合学会

出版年: 2002-11-20

資料形態: デジタル

掲載誌名: プラズマ・核融合学会年会予稿集 (19)

掲載ページ: p.65

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資料に関する注記

一般注記：: 著者所属: 名古屋大学工学研究科Affiliation: Department of Electrical Eng., Nagoya Universityレポート・講演番号: 26aB03

書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: 26aB03 表面波励起H_2/SiH_4プラズマによる高速・大面積シリコン薄膜形成(プラズマ基礎・応用I)
著者・編者: 宗宮,暁
豊田,浩孝
菅井,秀郎
出版事項: 日本 : プラズマ・核融合学会
出版年月日等: 2002-11-20
出版年（W3CDTF）: 2002-11-20
並列タイトル等: 26aB03 High Rate and Large Area Deposition of Silicon Thin Films by Surface-wave Excited SiH_4/H_2 Plasma
タイトル（掲載誌）: プラズマ・核融合学会年会予稿集
巻号年月日等（掲載誌）: (19)
掲載巻: (19)
掲載ページ: 65
本文の言語コード: JPN
著者別名: Somiya,S.
Toyoda,H.
Sugai,H.
一般注記: 著者所属: 名古屋大学工学研究科
Affiliation: Department of Electrical Eng., Nagoya University
レポート・講演番号: 26aB03
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10461050
https://dl.ndl.go.jp/pid/10461050
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
収集根拠: NII-ELS
公開開始日（W3CDTF）: 2017-08-23
受理日（W3CDTF）: 2017-08-15
保存日（W3CDTF）: 2017-08-15
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10389026
https://dl.ndl.go.jp/pid/10389026
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp