26aB03 表面波励起H_2/SiH_4プラズマによる高速・大面積シリコン薄膜形成(プラズマ基礎・応用I)

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10461050

Material type: 記事

Author: 宗宮,暁ほか

Publisher: プラズマ・核融合学会

Publication date: 2002-11-20

Material Format: Digital

Journal name: プラズマ・核融合学会年会予稿集 (19)

Publication Page: p.65

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Note (General)：: 著者所属: 名古屋大学工学研究科Affiliation: Department of Electrical Eng., Nagoya Universityレポート・講演番号: 26aB03

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Digital

Material Type: 記事
Title: 26aB03 表面波励起H_2/SiH_4プラズマによる高速・大面積シリコン薄膜形成(プラズマ基礎・応用I)
Author/Editor: 宗宮,暁
豊田,浩孝
菅井,秀郎
Publication, Distribution, etc.: 日本 : プラズマ・核融合学会
Publication Date: 2002-11-20
Publication Date (W3CDTF): 2002-11-20
Alternative Title: 26aB03 High Rate and Large Area Deposition of Silicon Thin Films by Surface-wave Excited SiH_4/H_2 Plasma
Periodical title: プラズマ・核融合学会年会予稿集
No. or year of volume/issue: (19)
Volume: (19)
Pages: 65
Text Language Code: JPN
Alias of Author: Somiya,S.
Toyoda,H.
Sugai,H.
Note (General): 著者所属: 名古屋大学工学研究科
Affiliation: Department of Electrical Eng., Nagoya University
レポート・講演番号: 26aB03
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/10461050
https://dl.ndl.go.jp/pid/10461050
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
Acquisition Basis: NII-ELS
Available (W3CDTF): 2017-08-23
Date Accepted (W3CDTF): 2017-08-15
Date Captured (W3CDTF): 2017-08-15
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/10389026
https://dl.ndl.go.jp/pid/10389026
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp