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電子書籍・電子雑誌日本応用磁気学会誌
巻号23 4-2
パルス磁場を用いた単...

パルス磁場を用いた単結晶シリコンの新規切断方法

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パルス磁場を用いた単結晶シリコンの新規切断方法

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/10464605
資料種別
記事
著者
金子,英雄ほか
出版者
日本応用磁気学会
出版年
1999-04-15
資料形態
デジタル
掲載誌名
日本応用磁気学会誌 23(4-2)
掲載ページ
p.1477-1480
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資料に関する注記

一般注記:

著者所属: 信越化学工業(株)磁性材料研究所著者所属: 東京大学物性研究所Affiliation: Magnetic Materials R & D Center, Shin-Etsu Chemical Co....

資料詳細

要約等:

A new cutting method using a pulsed magnetic field has been studied. A piece of single-crystal silicon is wound with a secondary coil, and is placed i...

書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
金子,英雄
大橋,健
俵,好夫
晴山,武
三浦,登
出版年月日等
1999-04-15
出版年(W3CDTF)
1999-04-15
並列タイトル等
New Cutting Method of Single Crystal Silicon Using a Pulsed Magnetic Field
タイトル(掲載誌)
日本応用磁気学会誌
巻号年月日等(掲載誌)
23(4-2)
掲載巻
23(4-2)