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電子書籍・電子雑誌日本応用磁気学会誌
Volume number23 4-2
パルス磁場を用いた単...

パルス磁場を用いた単結晶シリコンの新規切断方法

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パルス磁場を用いた単結晶シリコンの新規切断方法

Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/10464605
Material type
記事
Author
金子,英雄ほか
Publisher
日本応用磁気学会
Publication date
1999-04-15
Material Format
Digital
Journal name
日本応用磁気学会誌 23(4-2)
Publication Page
p.1477-1480
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Notes on use

Note (General):

著者所属: 信越化学工業(株)磁性材料研究所著者所属: 東京大学物性研究所Affiliation: Magnetic Materials R & D Center, Shin-Etsu Chemical Co....

Detailed bibliographic record

Summary, etc.:

A new cutting method using a pulsed magnetic field has been studied. A piece of single-crystal silicon is wound with a secondary coil, and is placed i...

Bibliographic Record

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Digital

Material Type
記事
Author/Editor
金子,英雄
大橋,健
俵,好夫
晴山,武
三浦,登
Publication, Distribution, etc.
Publication Date
1999-04-15
Publication Date (W3CDTF)
1999-04-15
Alternative Title
New Cutting Method of Single Crystal Silicon Using a Pulsed Magnetic Field
Periodical title
日本応用磁気学会誌
No. or year of volume/issue
23(4-2)
Volume
23(4-2)
Pages
1477-1480
Text Language Code
JPN
Note (General)
著者所属: 信越化学工業(株)磁性材料研究所
著者所属: 東京大学物性研究所
Affiliation: Magnetic Materials R & D Center, Shin-Etsu Chemical Co.
Affiliation: Institute for Solid State Physics, University of Tokyo
Persistent ID (NDL)
info:ndljp/pid/10464605
Collection (Materials For Handicapped People:1)
Collection (particular)
国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会
Acquisition Basis
NII-ELS
Available (W3CDTF)
2017-08-23
Date Accepted (W3CDTF)
2017-08-15
Date Captured (W3CDTF)
2017-08-15
Format (IMT)
application/pdf
Access Restrictions
インターネット公開
Availability of remote photoduplication service
不可
Periodical Title (Persistent ID (NDL))
info:ndljp/pid/10389060
Data Provider (Database)
国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション