412 ナノ Cu 薄膜のはく離試験

• 資料種別: 記事
• タイトル: 412 ナノ Cu 薄膜のはく離試験
• 著者・編者: 澁谷,忠弘; 北村,隆行; 大谷,隆一; 上野,貴司
• 出版事項: 日本 : 日本材料学会
• 出版年月日等: 1999
• 出版年（W3CDTF）: 1999
• タイトル（掲載誌）: 学術講演会講演論文集
• 巻号年月日等（掲載誌）: 48
• 掲載巻: 48
• 掲載ページ: 309-310
• 本文の言語コード: JPN
• 一般注記: 著者所属: 京都大学院; 著者所属: 京都大学
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/10736894; https://dl.ndl.go.jp/pid/10736894
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 学術機関 > 学協会; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00043
• 収集根拠: NII-ELS
• 公開開始日（W3CDTF）: 2017-08-30
• 受理日（W3CDTF）: 2017-08-22
• 保存日（W3CDTF）: 2017-08-22
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/10395259; https://dl.ndl.go.jp/pid/10395259
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp