Fabrication of Oxide Semiconductors and Fromation of the Heterostructure by UV Oxidation of Metallic Thin Films

• 資料種別: 博士論文
• タイトル: Fabrication of Oxide Semiconductors and Fromation of the Heterostructure by UV Oxidation of Metallic Thin Films
• 著者・編者: 張, 東元; Dongyuan, Zhang
• 著者標目: 張, 東元; Dongyuan, Zhang
• 出版年月日等: 2014-09-30
• 出版年（W3CDTF）: 2014-09-30
• 並列タイトル等: 金属薄膜の紫外線酸化による酸化物半導体の作製およびヘテロ接合の形成
• 授与機関名: 電気通信大学
• 授与年月日: 2014-09-30
• 授与年月日（W3CDTF）: 2014-09-30
• 報告番号: 甲第773号
• 学位: 博士（工学）
• 博論授与番号: 甲第773号
• 本文の言語コード: eng
• 対象利用者: 一般
• 一般注記: 2014
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11008474; https://dl.ndl.go.jp/pid/11008474
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• 収集根拠: 博士論文（自動収集）
• 受理日（W3CDTF）: 2018-01-02T17:18:43+09:00
• 作成日（W3CDTF）: 2016-09-02
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: 国立国会図書館内限定公開
• デジタル化資料送信: 図書館・個人送信対象外
• 遠隔複写可否（NDL）: 可
• 掲載誌（URI）: http://id.nii.ac.jp/1438/00000847/
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

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2023-12-06 再収集