Fabrication of Oxide Semiconductors and Fromation of the Heterostructure by UV Oxidation of Metallic Thin Films

• Material Type: 博士論文
• Title: Fabrication of Oxide Semiconductors and Fromation of the Heterostructure by UV Oxidation of Metallic Thin Films
• Author/Editor: 張, 東元; Dongyuan, Zhang
• Author Heading: 張, 東元; Dongyuan, Zhang
• Publication Date: 2014-09-30
• Publication Date (W3CDTF): 2014-09-30
• Alternative Title: 金属薄膜の紫外線酸化による酸化物半導体の作製およびヘテロ接合の形成
• Degree grantor/type: 電気通信大学
• Date Granted: 2014-09-30
• Date Granted (W3CDTF): 2014-09-30
• Dissertation Number: 甲第773号
• Degree Type: 博士（工学）
• Conferring No. (Dissertation): 甲第773号
• Text Language Code: eng
• Target Audience: 一般
• Note (General): 2014
• Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11008474; https://dl.ndl.go.jp/pid/11008474
• Collection: 障害者向け資料
• Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
• Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > デジタル化資料 > 博士論文; https://dl.ndl.go.jp/collections/A00014
• Acquisition Basis: 博士論文（自動収集）
• Date Accepted (W3CDTF): 2018-01-02T17:18:43+09:00
• Date Created (W3CDTF): 2016-09-02
• Format (IMT): application/pdf
• Access Restrictions: 国立国会図書館内限定公開
• Service for the Digitized Contents Transmission Service: 図書館・個人送信対象外
• Availability of remote photoduplication service: 可
• Periodical Title (URI): http://id.nii.ac.jp/1438/00000847/
• Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp

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2023-12-06 再収集