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電子書籍・電子雑誌Journal of laser micro/nanoengineering
巻号13 (2)
記事Laser-indu...

Laser-induced backside wet etching of SiO2 with a visible ultrashort laser pulse by using KMnO4 solution as an absorber liquid

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DOI[10.2961/jlmn.2018.02.0001]のデータに遷移します

Laser-induced backside wet etching of SiO2 with a visible ultrashort laser pulse by using KMnO4 solution as an absorber liquid

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/11282170
資料種別
記事
著者
M. Ehrhardtほか
出版者
Japan Laser Processing Society
出版年
2018-09
資料形態
デジタル
掲載誌名
Journal of laser micro/nanoengineering 13(2)
掲載ページ
-
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
タイトル
Laser-induced backside wet etching of SiO2 with a visible ultrashort laser pulse by using KMnO4 solution as an absorber liquid
著者・編者
M. Ehrhardt
P. Lorenz
B. Han
出版事項
日本 : Japan Laser Processing Society
出版年月日等
2018-09
出版年（W3CDTF）
2018-09
タイトル（掲載誌）
Journal of laser micro/nanoengineering
巻号年月日等（掲載誌）
13(2)
掲載巻
13(2)
ISSN（掲載誌）
1880-0688