平滑性の向上を目指したNi-Wめっき膜

• 資料種別: 記事
• タイトル: 平滑性の向上を目指したNi-Wめっき膜
• 著者・編者: 安井学; 黒内正仁; 金子智
• 出版事項: 日本 : 神奈川県立産業技術総合研究所
• 出版年月日等: 2018-03-01
• 出版年（W3CDTF）: 2018-03-01
• 並列タイトル等: Ni-W plating technology for improvement of planarization
• タイトル（掲載誌）: 研究報告
• 巻号年月日等（掲載誌）: 2017(23)
• 掲載巻: 2017(23)
• 本文の言語コード: jpn
• 国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/11615985; https://dl.ndl.go.jp/pid/11615985
• コレクション（共通）: 障害者向け資料
• コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
• コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 地方公共団体 > 都道府県 > 神奈川県; https://dl.ndl.go.jp/collections/B00060
• 収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
• 受理日（W3CDTF）: 2021-01-13T11:39:47+09:00
• 保存日（W3CDTF）: 2020-03-27
• 記録形式（IMT）: application/pdf
• オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
• 遠隔複写可否（NDL）: 不可
• 掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11475865/www.kanagawa-iri.jp/bgnrs_gid/issues/old/2017th/
• 掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/11615980; https://dl.ndl.go.jp/pid/11615980
• 連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション; https://dl.ndl.go.jp