平滑性の向上を目指したNi-Wめっき膜

Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11615985

Material type: 記事

Author: 安井学ほか

Publisher: 神奈川県立産業技術総合研究所

Publication date: 2018-03-01

Material Format: Digital

Journal name: 研究報告 2017(23)

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Digital

Material Type: 記事
Title: 平滑性の向上を目指したNi-Wめっき膜
Author/Editor: 安井学
黒内正仁
金子智
Publication, Distribution, etc.: 日本 : 神奈川県立産業技術総合研究所
Publication Date: 2018-03-01
Publication Date (W3CDTF): 2018-03-01
Alternative Title: Ni-W plating technology for improvement of planarization
Periodical title: 研究報告
No. or year of volume/issue: 2017(23)
Volume: 2017(23)
Text Language Code: jpn
Persistent ID (NDL): info:ndljp/pid/11615985
https://dl.ndl.go.jp/pid/11615985
Collection: 障害者向け資料
Collection (Materials For Handicapped People:1): テキストデータ
Collection (particular): 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 地方公共団体 > 都道府県 > 神奈川県
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00060
Acquisition Basis: インターネット資料収集保存事業（WARP）
Date Accepted (W3CDTF): 2021-01-13T11:39:47+09:00
Date Captured (W3CDTF): 2020-03-27
Format (IMT): application/pdf
Access Restrictions: インターネット公開
Availability of remote photoduplication service: 不可
Periodical Title (URI): https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11475865/www.kanagawa-iri.jp/bgnrs_gid/issues/old/2017th/
Periodical Title (Persistent ID (NDL)): info:ndljp/pid/11615980
https://dl.ndl.go.jp/pid/11615980
Data Provider (Database): 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp

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