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低環境負荷な物理蒸着...

低環境負荷な物理蒸着法によるフッ素系高分子薄膜の形成

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低環境負荷な物理蒸着法によるフッ素系高分子薄膜の形成

国立国会図書館永続的識別子
info:ndljp/pid/11986575
資料種別
記事
著者
安井爽眞ほか
出版者
電気学会基礎・材料・共通部門
出版年
2021
資料形態
デジタル
掲載誌名
電気学会基礎・材料・共通部門大会論文集 令和3年
掲載ページ
-
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書誌情報

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デジタル

資料種別
記事
著者・編者
安井爽眞
大石不二夫
臼井博明
出版年月日等
2021
出版年(W3CDTF)
2021
並列タイトル等
Formation of fluoropolymer thin films with SDG-friendly physical vapor deposition
タイトル(掲載誌)
電気学会基礎・材料・共通部門大会論文集
巻号年月日等(掲載誌)
令和3年
掲載巻
令和3年