シリコン基板上窒化ガリウム半導体のナノ分析とバルク評価

国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/12304907

資料種別: 記事

著者: 杉本貴紀ほか

出版者: あいち産業科学技術総合センター

出版年: 2013

資料形態: デジタル

掲載誌名: あいち産業科学技術総合センター研究報告 2013

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書誌情報

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デジタル

資料種別: 記事
タイトル: シリコン基板上窒化ガリウム半導体のナノ分析とバルク評価
著者・編者: 杉本貴紀
加藤正樹
中尾俊章
出版事項: 日本 : あいち産業科学技術総合センター
出版年月日等: 2013
出版年（W3CDTF）: 2013
並列タイトル等: Nano analysis and bulk evaluation for GaN transistor grown on Si substrate
タイトル（掲載誌）: あいち産業科学技術総合センター研究報告
巻号年月日等（掲載誌）: 2013
掲載巻: 2013
本文の言語コード: jpn
国立国会図書館永続的識別子: info:ndljp/pid/12304907
https://dl.ndl.go.jp/pid/12304907
コレクション（共通）: 障害者向け資料
コレクション（障害者向け資料：レベル1）: テキストデータ
コレクション（個別）: 国立国会図書館デジタルコレクション > 電子書籍・電子雑誌 > 地方公共団体 > 都道府県 > 愛知県
https://dl.ndl.go.jp/collections/B00069
収集根拠: インターネット資料収集保存事業（WARP）
受理日（W3CDTF）: 2022-07-05T08:07:06+09:00
保存日（W3CDTF）: 2021-03-26
記録形式（IMT）: application/pdf
オンライン閲覧公開範囲: インターネット公開
遠隔複写可否（NDL）: 不可
掲載誌（URI）: https://warp.da.ndl.go.jp/info:ndljp/pid/11656280/www.aichi-inst.jp/research/report/
掲載誌（国立国会図書館永続的識別子）: info:ndljp/pid/12304906
https://dl.ndl.go.jp/pid/12304906
連携機関・データベース: 国立国会図書館 : 国立国会図書館デジタルコレクション
https://dl.ndl.go.jp